2017年10月12日-13日，首届國際先進光刻技術研討會在北京國際會議中心舉行，由集成電路產業技術創新戰略聯盟主辦，中國科學院微電子研究所承辦，中芯國際（SMIC）、長江存儲（YMTC）、華虹集團、 Mentor、ASML、KLA Tencor、 南大光電（Nata）、上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）、Synopsys、Toppan、JSR、東方晶源、瀋陽芯源贊助。 會議共有200餘人參會，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機構、高校等。 我公司董事秦怡生、副總經理楊建國參加了本次研討會。

　　大會主席、集成電路產業技術創新戰略聯盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項辦副巡視員、02專項實施管理辦公室副主任邱鋼先後為大會致開幕詞，大會副主席、中科院微電子研究所所長葉甜春就當前行業趨勢做了分析報告，大會秘書長、中科院微電子研究所計算光刻研發中心主任韋亞一研究員主持開幕式。 按照大會安排，在這兩天的時間裏，來自Intel、IBM、Qualcomm（高通）、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報告，深入分析了光刻領域先進節點的科技手段和解決方案，內容豐富，包含7nm及以下節點的計算光刻技術、 SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、 光刻設備、資料等。 會後，參會嘉賓進行合影留念。